技術(shù)文章
當(dāng)前位置：
主頁 >
技術(shù)文章 > RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的特點(diǎn)和應(yīng)用場景
RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的特點(diǎn)和應(yīng)用場景
時(shí)間：2023-03-09 點(diǎn)擊次數(shù)：2242
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，它利用射頻電源在上下電極間產(chǎn)生輝光放電，使反應(yīng)氣體分子被電離生成等離子體，然后通過化學(xué)和物理反應(yīng)來移除襯底表面的材料。
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)具有以下特點(diǎn)：
- 固態(tài)射頻發(fā)生器和近距離耦合匹配網(wǎng)絡(luò)，可實(shí)現(xiàn)快速且一致的刻蝕
- 全局域的工藝氣體進(jìn)氣噴頭實(shí)現(xiàn)了均勻的氣體分布
- 電極溫度可調(diào)節(jié)，范圍為-150℃至+400℃
- 高抽氣速率能夠提供較寬的工藝氣壓窗口
- 晶圓壓盤與背氦制冷提供了更佳的晶片溫度控制
- 可刻蝕各種材料，如金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)在微納加工領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，如制備微型傳感器、微型馬達(dá)、微型光學(xué)器件等。它可以實(shí)現(xiàn)高度各向異性的刻蝕，即沿垂直方向刻蝕速率遠(yuǎn)大于沿水平方向刻蝕速率，從而保證了圖形的精確轉(zhuǎn)移和高方面比。
